大家好，来看一则突发消息。

　　美光(guāng)公司在华销售的(de)产品未通过网络安全审查

　　据网信办(bàn)消(xiāo)息，日前，网络安全审查办(bàn)公室依法对美(měi)光公司在华(huá)销(xiāo)售产品进行了网络(luò)安(ān)全审查。

　　审查发现，美光公司产品存在(zài)较严重(zhòng)网络安全问(wèn)题隐(yǐn)患，对我国(guó)关键信(xìn)息(xī)基础设施供应链造(zào)成(chéng)重大安全(quán)风险，影响我国(guó)国家安全(quán)。为此(cǐ)，网络安全审查办公(gōng)室依法作出不(bù)予(yǔ)通过网络安全审查的结论。按(àn)照《网络安全(quán)法》等法律法规，我国内关键信息基(jī)础设施的运营者应停止(zhǐ)采购美(měi)光公司产品。

　　此次对美光公司产品(pǐn)进行网络(luò)安全审(shěn)查，目的(de)是防范(fàn)产品(pǐn)网络(luò)安全问(wèn)题危害国家(jiā)关(guān)键信息(xī)基础设施安全，是(shì)维(wéi)护国家安全的必要措施。中国坚(jiān)定推进高(gāo)水(shuǐ)平对外开放(fàng)，只要遵守中国(guó)法律(lǜ)法规要求(qiú)，欢迎(yíng)各国企业、各类平(píng)台产品服务进入(rù)中国市场。

　　3月31日，中(zhōng)国网信(xìn)网(wǎng)发文称，为保障(zhàng)关键信息(xī)基础设(shè)施供应链安(ān)全，防(fáng)范产品问(wèn)题隐患美白精华一次用多少量，美白精华一次用多少量377造(zào)成网络(luò)安全风险(xiǎn)，维(wéi)护国家(jiā)安全，依据《中华人民共和国(guó)国家安全法(fǎ)》《中华人民共和国网络安全法》，网(wǎng)络安全审查办公(gōng)室按照(zhào)《网(wǎng)络安全美白精华一次用多少量，美白精华一次用多少量377(quán)审查办法》，对美光公(gōng)司（Micron）在华销售的(de)产品实施网络安全审查。

　　美光(guāng)是美国的存储芯片(piàn)行业龙头，也是全球(qiú)存储芯片(piàn)巨头之(zhī)一(yī)，2022年收入来自中(zhōng)国市场(chǎng)收入从此前高(gāo)峰57％降至(zhì)2022年约11％。根据市场咨(zī)询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠、西部(bù)数据、SK 海力(lì)士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存(cún)）市(shì)场份额约为 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海力(lì)士、美光(guāng)在全(quán)球 DRAM （内(nèi)存）市场份美白精华一次用多少量，美白精华一次用多少量377额约为 94.35％。

　　A股上市公司中(zhōng)，江波(bō)龙(lóng)、佰维(wéi)存储等公司披露过美(měi)光等国际存(cún)储厂(chǎng)商为公(gōng)司供(gōng)应商。

　　美(měi)光在(zài)江波(bō)龙采购占(zhàn)比已(yǐ)经显著下(xià)降，至少已经(jīng)不是主要(yào)大(dà)供应(yīng)商。

　　公告显示， 2021年美光位列江波龙第一大(dà)存储(chǔ)晶圆供应(yīng)商，采购约31亿元(yuán)，占(zhàn)比(bǐ)33.52％；2022年，江波龙第(dì)一大、第二大和(hé)第(dì)三大供应商采购金额占比(bǐ)分别(bié)是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江波龙已经(jīng)在存储产(chǎn)业链上下游建立(lì)国内外广泛合(hé)作。2022年年报显示，江波龙(lóng)与(yǔ)三星(xīng)、美光、西部(bù)数据等主要(yào)存(cún)储晶圆原厂签署了长期合(hé)约(yuē)，确保存储晶圆供应(yīng)的稳定性，巩固公司在下游市场的(de)供应优(yōu)势，公(gōng)司也与国内国(guó)产存储晶(jīng)圆原厂武(wǔ)汉(hàn)长(zhǎng)江存储、合(hé)肥长鑫(xīn)保持良好的合作。

　　有券商此(cǐ)前就分析，如果美光(guāng)在中国(guó)区销售受到限制，或将导致下游客户(hù)转而采购国(guó)外三星、 SK海力士，国内长江存储(chǔ)、长鑫存储等竞对产品

　　分析(xī)称，长存、长(zhǎng)鑫的上游设(shè)备厂或从中受益。存储器的生产已经(jīng)演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维(wéi)的结(jié)构转(zhuǎn)变使(shǐ)刻蚀和薄膜成为最(zuì)关键、最大量的(de)加工(gōng)设备(bèi)。3D NAND每层(céng)均需要经过薄膜(mó)沉(chén)积工艺步骤，同时刻蚀目(mù)前前沿要(yào)刻到(dào) 60：1的深孔，未来可能会(huì)更深的孔(kǒng)或(huò)者沟(gōu)槽(cáo)，催生(shēng)更(gèng)多设备(bèi)需求。据东京电子披露，薄膜沉积设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线资本开支合(hé)计(jì)为75％。自长江存(cún)储(chǔ)被加入(rù)美(měi)国(guó)限制名单，设备国产(chǎn)化(huà)进(jìn)程(chéng)加速(sù)，看好拓荆科技（薄(báo)膜(mó)沉积）等相关公司份额提升，以及存储业务占比较高的华海(hǎi)清(qīng)科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长(zhǎng)。

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