大家好(hǎo)，来看一(yī)则突发消(xiāo)息。

　　美光公司在华(huá)销(xiāo)售的产品未通过网络(luò)安全(quán)审(shěn)查

　　据网(wǎng)信办消息，日前，网络安全审查(chá)办公室依(yī)法对美光公(gōng)司在华销售产品(pǐn)进行(xíng)了网络(luò)安全审查。

　　审查发现，美光公(gōng)司产(chǎn)品存在较严(yán)重(zhòng)网络安全问题隐患，对(duì)我国关键信息基础(chǔ)设施供应链造成重大安全(quán)风险，影响(xiǎng)我(wǒ)国国家安全。为(wèi)此七美德分别对应哪几个天使 七美德分别是谁，网络安(ān)全审(shěn)查办公(gōng)室(shì)依法(fǎ)作出不予通过网络安(ān)全审查的结论。按(àn)照《网络安全(quán)法》等法律(lǜ)法规，我(wǒ)国内关(guān)键信息基础设施(shī)的运营者应停止(zhǐ)采购(gòu)美光公司产品。

　　此次对美光公司产(chǎn)品进行网络(luò)安全(quán)审查(chá)，目的是防范产品网(wǎng)络安(ān)全问题危害国家关键信(xìn)息(xī)基础设(shè)施安全，是维护国家(jiā)安(ān)全的必要措施。中国坚(jiān)定推(tuī)进(jìn)高水平对外开放，只要(yào)遵守(shǒu)中国法律法规要求(qiú)，欢(huān)迎各国(guó)企业、各类平台产品(pǐn)服务进(jìn)入中国市场(chǎng)。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发文称(chēng)，为保障关键信息基础(chǔ)设施供应链安(ān)全(quán)，防范产品问题隐患造(zào)成(chéng)网络安(ān)全风(fēng)险，维护国家安全(quán)，依据《中华人民共和国国(guó)家安(ān)全(quán)法》《中华人民共和国网络(luò)安全(quán)法(fǎ)》，网络安全审查办公室按照《网络安全审查办法(fǎ)》，对(duì)美光公司（Micron）在(zài)华销售的产品实(shí)施网络安全审(shěn)查。

　　美光是(shì)美国的存储芯片(piàn)行业龙头，也是全球(qiú)存储芯片巨头之一(yī)，2022年收入(rù)来自中国(guó)市(shì)场收入(rù)从此前高峰(fēng)57％降至2022年约11％。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子(zi)、 铠侠、西(xī)部数据(jù)、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球(qiú) NAND Flash （闪存）市(shì)场份额约为 96.76％，三(sān)星电子、 SK 海(hǎi)力士、美光在全球 DRAM （内存）市(shì)场份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市(shì)公司中，江波龙、佰(bǎi)维存(cún)储等公司披(pī)露过美光等(děng)国际存储厂商为(wèi)公(gōng)司供应商。

　　美光在(zài)江波龙(lóng)采(cǎi)购占比已经(jīng)显(xiǎn)著下(xià)降，至少已(yǐ)经不是主要大供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年(nián)美光位列江(jiāng)波(bō)龙(lóng)第(dì)一大存(cún)储晶(jīng)圆供应商，采购约(yuē)31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第(dì)二(èr)大和第三大供(gōng)应商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存储产业链上下(xià)游建立国内外广泛合作。2022年年报(bào)显(xiǎn)示，江波龙与(yǔ)三星、美光、西部数(shù)据等主要存储晶圆(yuán)原厂签署(shǔ)了长期合约，确保存(cún)储(chǔ)晶圆供应(yīng)的稳(wěn)定性，巩固公司在下游市场(chǎng)的供(gōng)应优势，公(gōng)司(sī)也与国内国(guó)产存储晶圆原(yuán)厂武(wǔ)汉长(zhǎng)江(jiāng)存储、合肥长鑫保持良好的合作。

　　有券商(shāng)此前就分析(xī)，如果美光在中国(guó)区销售受(shòu)到限(xiàn)制，或(huò)将导致下游客户转而采购国(guó)外(wài)三星(xīng)、 SK海力士，国内长江存储、长(zhǎng)鑫存储(chǔ)等竞对(duì)产品

　　分析称(chēng)，长(zhǎng)存、长鑫(xīn)的上游设备厂或从中(zhōng)受益。存储器的生产已(yǐ)经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代(dài)，2 维到3维的结构转变使刻(kè)蚀(shí)和薄膜成(chéng)为最关键、最大(dà)量的加工设备。3D NAND每(měi)层均需要(yào)经过薄膜沉积工艺(yì)步骤，同时刻(kè)蚀(shí)目前前沿要刻到(dào) 60：1的深(shēn)孔，未来可能会更深的孔(kǒng)或者沟槽，催生更多设备需求。据东京电子披露，薄(báo)膜沉积(jī)设备及(jí)刻(kè)蚀占(zhàn)3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为(wèi)75％。自长江(jiāng)存(cún)储被加入七美德分别对应哪几个天使 七美德分别是谁美国限(xiàn)制名单，设备国产(chǎn)化进程加速，看好(hǎo)拓荆科技（薄膜沉积）等相关公司份额提升七美德分别对应哪几个天使 七美德分别是谁，以(yǐ)及存储业务占比较高(gāo)的(de)华(huá)海清(qīng)科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增(zēng)长。

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